ASML日前表示，目前的技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点，包括诸多前瞻技术。此外，光刻系统分辨率的改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的发展路线来看，未来十年甚至更长时间内，技术创新将使摩尔定律继续生效。
（文章来源：财联社）
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