公司发布2021 年报。2021 年公司营业收入31 亿元，增长37%；归母净利润10 亿元，增长105%；扣非归母净利润3 亿元，同比大幅增长；剔除股份支付后扣非归母净利润5 亿元，同比增长267%。股权激励费用约2 亿，公允价值变动4.6 亿（税前），补助3.5 亿（税前）。

    营收结构上，刻蚀收入20 亿元，增长55%，毛利率44%；MOCVD 收入5 亿元，增长1%，毛利率34%（同比提升15pct）。

    需求旺盛，合同负债持续增长。公司2021 年新签订单41 亿元，同比增长91%。报告期末，公司合同负债13.7 亿元，环比21Q3 末提升53%。公司存货17.6 亿元，其中发出商品约8.5亿元（同比增长72%）。合同负债反应在手订单，发出商品反应未来收入确认。

    ICP 放量增长强劲，MOCVD 业务拐点来临。

    （1）公司2021 年付运298 腔CCP，产量增长40%，并取得5nm 及以下逻辑重复订单，且在128 层3D NAND 广泛应用。公司正开发新一代涵盖128nm 及以上的关键刻蚀应用以及极高深宽比刻蚀设备。

    （2）公司2021 年付运134 腔ICP，产量增长235%，得到多个国内客户订单。公司下一代ICP目标满足5nm 及以下逻辑、1X 纳米DRAM 及128 层以上3D NAND 刻蚀需求。

    （3）公司用于Mini LED 的Unimax 设备在2021 年订单超过100 腔，且2022 年2 月兆驰增量订单52 腔。此外，公司开发GaN 功率器件MOCVD，处于交付客户验证阶段。

    （4）公司在钨填充CVD 获得阶段性进展，与客户对接验证，且正进一步开发CVD 和ALD。

    公司在3 月10 日增资上海睿励1.08 亿元，持股比例由20%增至29%。上海睿励主营的产品为光学膜厚测量设备和光学缺陷检测设备，以及硅片厚度及翘曲测量设备等，其光学测量设备TFX3000 已应用于28nm 产线，正验证于14nm 产线；应用于64 层3D NAND，正验证于96 层3D NAND。

    持续投入研发。公司研发投入7.28 亿元，增长14%，研发投入占营收约23%。其中，研发费用为5.95 亿元，增长6%。公司研发人员415 人，占员工总数40%。公司研发新品包括新一代CCP、新一代ICP、功率GaN MOCVD 以及CVD 类，快速打开产品线。

    半导体刻蚀设备龙头，打造旗舰平台型企业。公司成功打造一支具有创造力和核心竞争力的技术团队。公司MOCVD 持续升级迎来Mini LED 拐点，CCP 产品涵盖国内外一线客户，ICP 产品快速迭代并放量，并布局沉积等新产品线，打造半导体设备旗舰企业，并通过外延投资沈阳拓荆、睿励仪器等推进平台型建设。

    半导体刻蚀设备龙头，打造旗舰平台型企业。公司成功打造一支具有创造力 和核心竞争力的技术团队，并成功打开商业化空间。公司MOCVD 持续升级，CCP 产品涵盖国内外一线客户，ICP 产品快速迭代并放量，并继续布局半导 体设备新产品线，打造半导体设备旗舰企业，并通过外延投资沈阳拓荆、睿励仪器、山东天岳等公司推进平台型建设。预计公司2022~2024 年归母净利润11.05/13.24/15.45 亿元，维持“买入”评级。

    风险提示：下游需求不及预期。

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