多年深耕光刻胶领域，光刻胶国产化的重要力量瑞红苏州是一家专注于光刻胶及其配套试剂研发、生产及销售等业务的高新技术企业，产品主要包括半导体光刻胶、显示面板光刻胶等，其中半导体光刻胶包括紫外宽谱光刻胶、g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶等，显示面板光刻胶包括触摸屏光刻胶、TFT-LCD 光刻胶等。2023 年实现营收2.46 亿元（+9.1%），归母净利润2639.58 万元（-22.91%）。

    芯片制程提升+中国晶圆产能扩张+光刻胶国产化加速，带动光刻胶需求增长全球半导体制程向着更先进、更精细化方向发展，驱动半导体制造对光刻胶需求增长。其中KrF 光刻胶随着3D NAND 堆叠层数迅速增加，对光刻胶的使用量也将大幅提升；ArF 光刻胶主要用于先进制程的多重光刻工艺，其用量也随着市场对先进工艺产品的需求不断增长；先进制程EUV 光刻道次的增加，推动其使用量将大幅增加。同时，根据全球半导体观察数据，截至2023 年11 月，中国晶圆厂已建成44 座，预计至2024 年底，将建立32 座大型晶圆厂，且全部锁定成熟制程。根据SEMI 数据，预计2023 年中国预计将占据200 mm 晶圆厂产能的22%，2023-2026 年将以22%的增长率位居第二；预计2024-2026 年中国大陆半导体光刻胶总体需求量增速将快速复苏，达到12.04%、11.50%和7.71%。此外，我国光刻胶行业发展起步较晚，生产能力主要集中在PCB 光刻胶等中低端产品，高端半导体光刻胶被美日企业垄断，随着国内半导体光刻胶树脂原材料技术壁垒实现突破，国产光刻胶进口替代有望加速。

    光刻胶产品覆盖广+设备优势，定增加码光刻胶先进工艺公司是目前我国唯一一家拥有全系列波长（436/365/248/193nm）光刻机研发平台的光刻胶生产企业，具备多项自主研发的光刻胶生产核心技术，光刻胶实现了较为全面的产品技术序列覆盖。目前紫外宽谱光刻胶、g/i 线光刻胶、TFT 光刻胶等产品均已通过客户认证并量产多年；2022 年，KrF 高端光刻胶亦通过客户认证并开始量产；2023 年对ArF 高端光刻胶研发工作已启动。客户包括中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成等国内知名半导体企业。此外，公司拟向中国石化集团资本定向发行股票不超过1.01 股，预计募集资金总额不超过8.5亿元，募集资金用于先进制程工艺半导体光刻胶及配套材料业务拓展项目。

    可比公司PE TTM 均值为55.06X

    瑞红苏州被认定为“江苏省专精特新中小企业”，成立于1993 年，已规模生产光刻胶超30 年，产品技术水平及销售额均处于国内领先地位。截至2023 年末，公司拥有32 项国内专利，其中发明专利21 项。在芯片制程提升+下游晶圆厂建设加速+国产替代空间广阔的背景下，光刻胶需求有望复苏，作为我国唯一一家具备全系列波长光刻机研发平台，拥有国际水平的高端光刻胶生产线，实现了较为全面的光刻胶产品覆盖。建议关注。

    风险提示：市场波动风险、原材料进口依赖风险、原材料价格波动风险。

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