薄膜沉积设备冲云破雾，PECVD扬帆起航

    二核心竞争优势有哪些

    三未来成长空间在哪里

    公司薄膜沉积设备打破了国外厂商垄断。21年营收7.58亿元，同比增长74%，其中PECVD营收6.75亿元，占89%，归母净利润0.68亿元，同比增长696%。毛利率44.01%，同比增长9.95pct，净利率8.83%，同比增长11.52pct。

    公司董事长吕光泉先生、创始人姜谦先生均为国家高层次人才，带领团队承担多项国家重大专项。

    打破海外长期垄断，关键性能达到国际水平

    国家大基金为第一大股东，助力公司产业链赋能

    拥有国内优质客户群体，中芯国际为第一大客户

    高强度研发投入，持续推进技术创新

    下游晶圆厂加速扩产，21年中国大陆晶圆厂产能占全球比例提升至16%

    芯片制程升级，带动薄膜沉积工序及薄膜种类增加以逻辑芯片为例，90nm CMOS工艺约40道薄膜沉积工序，3nm FinFET则超过100道以FLASH为例，薄膜沉积设备占产线资本开支比例从2D的18%增长至3D的26%

    我国半导体设备市场销售额占全球的29%，但集成电路设备自给率仅5%左右，国产替代空间广阔

    预计22年全球薄膜沉积设备市场规模约247亿美元

    预计22年中国大陆薄膜沉积设备市场规模约74亿美元

    盈利预测及投资建议

    国内薄膜沉积设备领军企业，维持“增持”评级公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，随着全球晶圆厂扩产以及国产替代化趋势，有望进一步成长，预计公司2022~2024年净利润分别为1.53/2.57/4.40亿元，对应22/23/24年PE为117/69/41倍，维持“增持”评级。

    风险提示：市场竞争加剧；研发不及预期；下游需求波动；地缘政治因素等

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