22Q2 营收环比增长287%，国产设备替代加速，超出市场预期22H1 营收5.23 亿元，同比增长365%，归母净利润1.08 亿元，同比扭亏为盈，扣非归母净利润0.49 亿元，同比扭亏为盈。

    　　22Q2 营收4.16 亿元，环比增长287%，归母净利润1.20 亿元，同比扭亏为盈，扣非归母净利润0.71 亿元，同比扭亏为盈；毛利率46.58%，环比下降0.86pct，净利率28.67%，环比提升40.37pct，净利率提升主要由于营收规模增长驱动各项费用率大幅下降，其中研发费用率环比下降26.60pct。

    　　PECVD 迎爆发式增长，SACVD/ALD 产业化应用加速22H1 PECVD 设备营收4.67 亿元，同比增长345%。主力产品PF-300T（双站式）订单快速增长，广泛应用于28nm 及以上逻辑芯片/3D NAND/DRAM制造，NF-300H（六站式）在DRAM 领域实现首台产业化应用。

    　　SACVD 设备营收0.41 亿元，在12 英寸40/28nm 及8 英寸90nm 以上逻辑芯片持续取得订单。ALD 设备营收0.08 亿元，高端PE-ALD 已在逻辑芯片实现产业化应用，在3D NAND/DRAM 领域验证顺利，Thermal-ALD[PF-300T（双站式）]已取得客户订单。

    　　产品运行稳定性优势突出，在手订单和待确认收入显现快速增长截至22H1 公司设备在客户端产线生产产品的累计流片量增加至7100 余万片（21 年底4600 余万片）。22H1 公司设备在客户端产线生产运行稳定性表现优异，平均机台稳定运行时间（Uptime）超过90%（业内标准通常为大于85%）。

    　　截至22H1，存货15.63 亿元，其中发出商品9.31 亿，较年初增长23%，合同负债10.86 亿元，较年初增长123%，显现在手订单和待确认收入均大幅增长。

    　　高端CVD 设备&高产能平台持续完善，国产替代加速构筑成长阶梯公司开发的基于高产能平台的Thermal-ALD、高密度等离子体HDPCVD（PF-300T（单站式）及TS-300（多边形高产能平台））均已取得客户订单，其中HDPCVD （PF-300T（单站式）已出货至客户端进行产业化验证。此外，高产能平台TS-300 可以搭载PECVD/ALD/HDPCVD 反应腔，用于薄膜紫外线固化处理的UV Cure 设备可于PECVD 设备成套使用，也已取得客户订单。

    　　国内薄膜沉积设备领军企业，维持“增持”评级全球半导体设备龙头LAM 和KLA 证实收到美国商务部通知禁止其对华出口14nm 及以下先进制程设备，且未来高端存储制造所需设备也可能受到对华出口限制。公司PECVD/SACVD/ALD 设备应用于3D NAND/DRAM/逻辑芯片领域，是国产设备替代加速进程中的主力供应商，营收有望加速成长，预计公司2022~2024 年净利润分别为3.01/4.20/5.48 亿元，对应22/23/24 年PE 为96/69/53 倍，维持“增持”评级。

    　　风险提示：市场竞争加剧；研发不及预期；下游需求波动；地缘政治因素等

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