盛美上海自2022 年11 月18 日以来先后发布第一款前道涂胶显影Track 机和PECVD 机台，均即将发往国内客户验证。公司出货量不断突破，两款新品使得面向全球市场空间翻倍，展望公司长期增长态势向好，维持“增持”投资评级。

    　　盛美上海产品出货量不断突破，获得海内外重复订单。公司起初聚焦单片兆声波清洗设备，不断扩展产品业务，目前形成了IC 专用清洗设备（包括单片、槽式、单片槽式组合清洗、背面清洗、边缘刻蚀清洗、刷洗等）、前道铜互连及先进封装电镀设备、先进封装湿法设备和立式炉管设备等产品。截至2022年11 月16 日，清洗设备累计出货从2000 提升到3000 腔，电镀设备实现500 腔出货；槽式清洗设备和电镀设备拿到国内外大厂订单，开拓全球重量级客户，获得美国主要国际半导体制造商SAPS 单片清洗设备2 台订单。

    　　盛美上海发布前道涂胶显影Track 和PECVD 设备，正式进入前道光刻和PECVD 领域。1）涂胶显影Track：公司于2013 年发布第一款涂胶显影机并取得订单，于2022 年11 月18 日成功推出12 寸前道track 机Ultra LITH，适用I-Line、KrF、ArF 工艺；该产品具有4 个装载端口、8 个涂层室、8 个显影室，未来可扩展到12 个涂层室和12 个显影室；产品现阶段支持300 片/h，未来有望支持400 片/h；2）PECVD 设备：公司于2022 年12 月12 日正式发布第一款PECVD 设备Ultra Pmax，其配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计。该设备采用单腔体模块化设计，有两种配置：一种是可以配置一至三腔体模块，适合极薄膜层或快速工艺步骤；另一种是可以配置四至五腔体模块，支持厚膜沉积以及更长的工艺时间。以上两种配置中，每个腔体都安装有多个加热卡盘，以优化工艺控制并提高产能。

    　　ArF 型号Track 机即将发往国内客户验证，PECVD 设备预计几周内发往国内客户验证。1）涂胶显影Track：新品目前主要在内部测试，预计在年底将ArF 型号将发往国内客户验证，同时公司将于2023 年推出I-Line 型号设备并已开始着手KrF 设备研发；2）PECVD 设备：新品面向逻辑和存储端，公司预计将在几周内向一家国内客户交付其首台PECVD 设备。

    　　公司涂胶显影和PECVD 新品打开未来成长天花板。2021 年全球前道涂胶显影市场大约37 亿美元，薄膜沉积设备市场接近200 亿美元，其中PECVD 占比约33%即66 亿美元，两款新品使公司面向全球市场空间翻倍增加。

    　　投资建议。公司当前在手订单饱满，产能持续扩充，涂胶显影Track 和PECVD新品打开远期成长空间，展望未来公司成长动力充沛。我们预计公司2022/23/24 年收入为28.2/34.6/43.3 亿元，对应PS 为12.7/10.4/8.3，预计2022/23/24 年归母净利润为6.2/6.7/8.2 亿元，对应PE 为57.9/53.8/43.6，维持“增持”投资评级。

    　　风险提示：晶圆厂资本支出不及预期、客户验证及导入不及预期、行业竞争加剧、疫情影响发货及收入确认节奏、厂房建设不及预期的风险。

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